河南纳米粒度分析仪

时间:2023年09月01日 来源:

颗粒形状信息很重要,混合样品或未知组分样品,需要高分辨率的数量分布来准确分析样品中的少数特殊颗粒,正在考虑将实验室检测扩大到工业规模的检测,我们还提供原位在线粒形分析系统,可用于高温,高压以及腐蚀性环境。动态测量系统,显微镜同等级的精度真实原始数据的存储,强大的预处理工具,高质量的图像分析结果,可精确测量非球形颗粒,供40个ISO标准粒形参数,包含粒径、形状因子、球形度、圆度、对比和表格,可保存分析测量图像和录保,图像分析结果可追溯。驰光机电科技和客户携手诚信合作,共创辉煌!河南纳米粒度分析仪

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技术优势:CPS系统优良性能的基础是它先进的示差沉降技术。高转速:CPS可以支持的较高转速为24,000转/分。对于超细颗粒,其分析速度比其它产品快倍。使用速度调节技术,可以对粒度分布范围较广的样品进行分析。对于在其它分析仪上很多非常耗时(数小时或更长)的样品,CPS可以快速得到结果。高精度标定:CPS系统使用已知的标定颗粒进行标定,与美国国家标准和技术研究院(NIST)相兼容的标准保证了分析结果的一致性和精确度。使用内标法,也即把已知标定颗粒与待分析样品相混合,所得的峰值结果可以达到±0.25%的精度。江苏激光粒度分析仪哪家好驰光机电科技有限公司以顾客为本,诚信服务为经营理念。

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如果能够对催化剂元素含量(钴、锰和溴Br)进行连续在线分析,可以更好地控制工艺,提高产品质量和增加产量。C-Quand在线EDXRF分析仪:利用 C-Quand在线EDXRF分析仪对钴、锰、溴三种催化剂进行了同时和连续的分析。所使用的技术是由X射线管激发的能量分散X射线荧光,不需要放射源。在分析过程中,连续流动过程样品中的催化剂被X射线激发,并发出其特征辐射。使用技术气体比例计数器(GPC)检测和分析这些放射X射线,并使用存储的校准曲线将其转换为结果。

而CMP工艺离不开研磨料的发展,那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面,将抛光垫放置在研磨盘上,抛光时,旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上,由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动,然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下,均匀分布其上,在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。驰光机电科技有限公司在客户和行业中树立了良好的企业形象。

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各种金属粉体:如铝粉、锌粉、钼粉、钨粉、镁粉、铜粉以及稀土金属粉、合金粉等。其它粉体:如催化剂、水泥、磨料、医药、农药、食品、涂料、染料、荧光粉、河流泥沙、陶瓷原料、各种乳浊液等。在现代装备制造业中的各种润滑油、液压油、燃料油、超导体、绝缘材料、无线电技术等行业越来越离不开激光粒度检测技术,在这些领域,激光粒度仪发挥着越来越大的作用。粒度测量仪可用于建筑材料生产种,建筑业大量使用的水泥,产品的粒度分布是影响质量的非常重要的因素之一。驰光机电科技敢于承担、克难攻坚。吉林激光粒度粒形分析仪报价

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激光检测器同时检测颗粒对光的散射程度,根据米氏散射理论,得出不同尺寸颗粒的相对含量,从而得到颗粒粒径的分布曲线。主要参数:测量范围:0.005-75μm,光源:405nmLED,旋转速度:12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM,标准分析圆盘:CR-39聚合物(耐有机溶剂和水溶液),可选 配:低密度样品分析扩展、变速圆盘;自动密度梯度液生成器(型号AG300);自动进样器(型号AS200);标定用标准颗粒。半导体CMP用抛光垫、清洗液、修整盘、抛光液、纳米研磨粒子以及OLED显示光敏聚酰亚胺、封装墨水、低温光阻材料等20余款“卡脖子”材料。河南纳米粒度分析仪

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