浙江高灵敏度纳米粒度分析仪厂家

驰光机电小编温馨提示：为了准确地测量颗粒直径，EyeTech必须区分在焦点中心的和离开焦点中心的交互作用，因为只有在焦点中心的交互信号才能提供真实的颗粒直径。这个可以采用脉冲形状过滤器可以实现。只有衍生信号窄的脉冲才被认为是在中心的交互信号，然后被加到粒径分布数据中。颗粒互相作用产生光阻：可记录每个颗粒数据，直接测量真实粒径，与光学及其他性质无关，粒径浓度均可检测，无需校正；仪器的光学测量系统（主机）与样品分散系统完全单独的。驰光机电始终以适应和促进发展为宗旨。浙江高灵敏度纳米粒度分析仪厂家

仪器的主要参数为：测量范围：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋转速度可选：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，标准分析圆盘：CR-39聚合物（耐有机溶剂和水溶液），可选配：低密度样品分析扩展、变速圆盘；自动密度梯度液生成器（型号AG300）；自动进样器（型号AS200）；标定用标准颗粒。激光粒度仪根据光学衍射和散射的原理，从激光器发出的激光束经显微物镜聚集，滤波和准直后，变成直径约10mm的平行光束，该光束照射到待测的颗粒上，就发生了散射，散射光经傅立叶透镜后，照射到光电探测器上的任一点都对应于某一确定的散射角。天津激光粒度粒形分析仪驰光机电科技不懈追求产品质量，精益求精不断升级。

因此，需要对其粒径的分布进行测试。而目前对炭黑的粒径测量方法为差速沉淀法。由于常用的炭黑粒径比较均匀，在测试时粒径的分布常呈现正态曲线分布，但在裂解后炭黑中混有橡胶纤维，导致粒径变大，不同粒径炭黑的含量不同，不再呈现均匀的正态分布。造成样品的测试比较困难。美国CPS24000纳米粒度分析仪可以真实反映样品在溶液中的真实粒径分布状态，粒径测试结果的精确度只次于扫描电镜。主要特点如下：所需样品量少，每次只需要0.1ml，这在疫苗研发、化学合成方面具有较大的优势。

测量低密度颗粒：示差沉降法过去一般用于测量密度大于分散介质液体密度的颗粒，CPS开发了一项新的技术技术(US Patent5,786,898)。很多用常规示差沉降法很难或者不可能分析的材料(例如油乳液、蜡乳液、粘性乳液或脂质体)，现在可以方便地使用CPS进行分析，而且精度很高。速度调节：CPS开发了一种特殊的圆盘设计使得在分析过程中可以调节圆盘的转速，而不会对沉降液体产生扰动，转速可以在20倍范围内升高或者降低，这样一来就使得分析的动态范围几乎增大了20倍。山东驰光机电科技有限公司产品适用范围广，产品规格齐全，欢迎咨询。

CPS纳米粒度分析仪测量金刚石微粉的粒径，可提供更精确更稳定的测量结果，有效控制产品的质量。应用实例：光催化活性高，高度耐酸碱耐腐蚀。二氧化钛粒度分布分析，稳定性二氧化钛，二氧化钛常被用作颜料、防晒霜和增稠剂。因此它有着大量的应用，从油漆到食用色素到化妆品和护肤品，因此二氧化钛的粒径测量十分重要。例如纳米二氧化钛颗粒可以用于防晒乳液，因为它们散射的可见光比用于普通涂料或者颜料中的二氧化钛颗粒小，同时还能提供紫外线保护。驰光机电深受各界客户好评及厚爱。天津纳米粒度分析仪哪家好

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CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用！欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题！浙江高灵敏度纳米粒度分析仪厂家

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