陕西高灵敏度纳米粒度分析仪报价

时间:2023年02月01日 来源:

EyeTec浓度测量:除了颗粒大小,激光和颗粒交互产生的信号可以提供非常有用的颗粒浓度信息。EyeTech记录全部的交互信号。因为旋转的激光的检测范围是一定的,所以颗粒浓度可以计算出来。了解颗粒数据库系统:可通过鼠标点击调出每个已检测颗粒的详细数据信息,包括图像、图形和参数;颗粒数量无限制;颗粒信息易于输出至Excel进行进一步处理;提供颗粒信息数据库,数据挖掘便于分析对比和统计。动态粒形分析的形状和粒径相关数据可提供关于单个颗粒丰富的信息。驰光机电的行业影响力逐年提升。陕西高灵敏度纳米粒度分析仪报价

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PEDOT是EDOT(3,4-乙撑二氧噻吩单体)的聚合物,PEDOT具有高电导率、高度的环境稳定性、对可见光具有高透过率等特点,大量用于光伏、电容器、电致变色、触摸屏等行业,用来制作抗静电涂层、OLED(有机电激发光二极管)、有机薄膜太阳能电池材料、电极材料、电化学生物传感器等。PEDOT及其复合材料,比如PEDOT/PSS(聚乙撑二氧噻吩和聚苯乙烯磺酸根阴离子的化学聚合物)的粒度大小和粒度分布与其导电性能相关。CPS纳米粒度分析仪可以提供确切稳定的测量分析,有助于终产品导电性能的评价。CPS纳米粒度分析仪测定PEDOT/PSS得到的结果,粒径为0.022微米(仪器使用转速为24,000转/分钟)。陕西高灵敏度纳米粒度分析仪报价驰光机电科技重信誉、守合同,严把产品质量关,热诚欢迎用户前来咨询考察,洽谈业务!

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磨料的粒度测量:以上我们了解到磨料在CMP工艺中起到了关键性的作用,CMP磨料颗粒的典型尺寸范围是50-250纳米,典型的过大聚集体为1-10微米,并出现在ppm范围内。颗粒表征的挑战来自于精确确定纳米级颗粒尺寸,同时还识别出相对较少的微米级聚集体。CPS纳米粒度分析仪表征磨料颗粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的颗粒,提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。较小峰值宽度可小至峰值直径的2%,粒径差别在大于3%的窄峰可以被完全分辨出来。

系统配有冲洗系统,减少了由于系统污染引起的计划外停机维护时间。样品预处理系统:正确设计和操作样品调节系统是分析仪成功运行的关键。该系统基于现场经验针对这种复杂的工艺样品,专门为低维护操作而设计。低维护的固体颗粒分离器。不带过滤元件可将颗粒去除达到2-3微米,减少了维护量。先进的安全系统,保护分析仪免受高压影响和防止产品泄漏。简单校准。标准的引入是一种手工操作,只需使用注射器即可,不需要定期重新校准,无样本回收系统。山东驰光机电科技有限公司拥有业内专业人士和高技术人才。

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而CMP工艺离不开研磨料的发展,那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面,将抛光垫放置在研磨盘上,抛光时,旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上,由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动,然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下,均匀分布其上,在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。驰光机电拥有先进的产品生产设备,雄厚的技术力量。广西CPS高精度纳米粒度分析仪厂家

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印刷和涂料,涂料:水基和油基涂料,微纤维涂料粘度改性剂,打印机/复印件墨粉,喷墨打印机墨水,炭黑,磁性材料。半导体:微磨料,CMP化学机械抛光。其他:纳米微球,淀粉/面粉颗粒,颗粒团聚模式分析,标准颗粒。CPS纳米粒度分析仪的操作软件集数据于一体,主要包括以下特性:后台数据采集,允许测量时浏览数据;重量,表面积,数量和吸收分布图;可以在同一张图表上显示20个不同的分布结果;可定制的分布统计输出结果;完整的粒度分布统计。陕西高灵敏度纳米粒度分析仪报价

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