高精度纳米粒度分析仪
CPS纳米粒度分析仪测量参数:粒径、粒形和浓度;粒径范围:0.1-3600μm;浓度范围:高达109颗粒/cm3(对1μm颗粒);供样方式:液体、干粉、表面;系统规格/重量电源:665L×280W×183H(mm);14Kg;100-130V,205-240V,50/60Hz,100VA;2mW He-Ne,632.8nm,硅PIN二极管检测器;全量程的0.3%,小可达0.2μm;同步频闪光源,亮度和持续时间可调;频闪率;可达30次/秒。分辨率B&W CCD摄像机。NTSC 840×640像素;PAL768×572像素。Windows XP操作系统,检测报告自动生成,符合FDA 21 CFRPART11标准。ISO标准;符合多项ISO方法标准;测量池模块:液体、乳液/不透明液体、干粉、纤维、磁性颗粒、加热液体及气溶胶。驰光机电科技从国内外引进了一大批先进的设备,实现了工程设备的现代化。高精度纳米粒度分析仪
CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分,其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm,其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸,因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用!欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题!青海激光粒度分析仪报价驰光机电科技的行业影响力逐年提升。
能够允许用户为不同样品设置标准测量方法SOP,并且可以对SOP进行编辑和保存。EyeTech 是一个模块化的系统,可以选配10种不同的测量池。更换测量池简便快速,仪器便于分析各种颗粒,如液相、乳化液、干粉、纤维、磁粉、加热的液体和气溶胶等。这些测量池模块都是配合不同的分析方法而开发的,确保能够根据样品的特性来测量。纤维测量池:ACM-104L,气溶胶测量池ACM-106,微流量测量池ACM-108,载玻片测量池ACM-110,加热测量池ACM-111,自由落体测量池ACM-112。在每一次分析过程中,激光光束与颗粒之间发生了上百万次的交互作用。
高灵敏度:即使只有1微克样品,CPS也能得到一个准确的粒度分布结果。快速、高精度数模(A/D)转换:可用信号分辨率(即软件操作的数据对象)决定于数模转换(A/D)过程。CPS系统使用的数模转换可以实现在每秒31次取样时保持20位以上的精度,即百万分之一的误差。快速检测头响应:CPS系统的检测头和电路设计允许在95%精度下0.1秒的响应速度,而同类产品的响应时间为1-4秒。这一出众的快速移动峰值检测能力较大地扩展了测量的动态范围,比同类型产品提供高出4倍多的分析速度。驰光机电科技有限公司坚持“顾客至上,合作共赢”。
驰光机电小编温馨提示:为了准确地测量颗粒直径,EyeTech必须区分在焦点中心的和离开焦点中心的交互作用,因为只有在焦点中心的交互信号才能提供真实的颗粒直径。这个可以采用脉冲形状过滤器可以实现。只有衍生信号窄的脉冲才被认为是在中心的交互信号,然后被加到粒径分布数据中。颗粒互相作用产生光阻:可记录每个颗粒数据,直接测量真实粒径,与光学及其他性质无关,粒径浓度均可检测,无需校正;仪器的光学测量系统(主机)与样品分散系统完全单独的。驰光机电科技有限公司锐意进取,持续创新为各行各业提供专业化服务。河北CPS高精度纳米粒度分析仪价格
驰光机电具备雄厚的实力和丰富的实践经验。高精度纳米粒度分析仪
仪器的主要参数为:测量范围:0.005-75μm,光源:405nmLED,旋转速度可选:12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM,标准分析圆盘:CR-39聚合物(耐有机溶剂和水溶液),可选配:低密度样品分析扩展、变速圆盘;自动密度梯度液生成器(型号AG300);自动进样器(型号AS200);标定用标准颗粒。激光粒度仪根据光学衍射和散射的原理,从激光器发出的激光束经显微物镜聚集,滤波和准直后,变成直径约10mm的平行光束,该光束照射到待测的颗粒上,就发生了散射,散射光经傅立叶透镜后,照射到光电探测器上的任一点都对应于某一确定的散射角。高精度纳米粒度分析仪
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